離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

目前常用等離子體激發(fā)頻率有40kHz、13.56MHz和2.45GHz三種。

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發(fā)頻率區(qū)別：

激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，其發(fā)生的反應為物理反應；

激發(fā)頻率為13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，其發(fā)生的反應既有物理反應又有化學反應；

激發(fā)頻率為2.45GHz的等離子體為微波等離子體，其發(fā)生的反應為化學反應。

40kHz、13.56MHz和2.45GHz等離子體激發(fā)頻率運用：

激發(fā)頻率為40kHz的等離子體即超聲等離子體清洗是以物理反應為主的等離子體清洗，也叫做濺射腐蝕（SPE）或離子銑（IM），其優(yōu)點在于本身不發(fā)生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響zui大，因而實際半導體生產(chǎn)應用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。而超聲等離子則應用于表面除膠、毛刺打磨等處理方面效果*。典型的等離子體物理清洗工藝是在反應腔體中加入氬氣作為輔助處理的等離子體清洗。氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。

激發(fā)頻率為2.45GHz的等離子體即微波等離子體是典型的等離子體化學清洗工藝，是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非常活潑，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。主要用于科研方面及實驗室。

激發(fā)頻率為13.56MHz的等離子體清洗是表面反應機制中物理反應和化學反應都起重要作用，即反應離子腐蝕或反應離子束腐蝕，兩種清洗可以互相促進，離子轟擊使被清洗表面產(chǎn)生損傷削弱其化學鍵或者形成原子態(tài)，容易吸收反應劑，離子碰撞使被清洗物加熱，使之更容易產(chǎn)生反應；

目前美國CIF公司所主要生產(chǎn)激發(fā)頻率為40kHz和13.56MHz等離子清洗機，了解更多產(chǎn)品信息請參閱CIF*：www.cif-china。。ｃｏｍ